Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1 для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si
- Самовывоз,
- Курьер
- Детально
Вакуумная установка VTT PLASMA M3 IS1 для нанесения в вакууме тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si магнетронным способом с предварительной очисткой ионным источником.
Установка обеспечивает равномерное нанесение покрытий на одну боковую поверхность пластины, размером 125мм на 125 мм, толщина пластины 220±20µm, при одновременной загрузке 300 изделий.
Вакуумная установка должна эксплуатироваться на производственных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 25ºС, относительной влажности воздуха от 40 до 75% и атмосферном давлении 84,0 * 10³ - 106,0 * 10³Па.
Возможно использование установки для нанесения декоративных покрытий на изделия из различных материалов.
С Уважением, директор предприятия
Василий Семенович
тел. моб: 375 (29) 6154641
skype: vvs_12
e - mail: vactt@mail. ru
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ.
1. Внутренний размер камеры: D=1060 мм, H=2370.
2. Предельный остаточный вакуум 9х10 - 4 Па в камере.
3. Мощность, потребляемая установкой:
- в режиме откачки - 12 кВт;
- в режиме очистки и нанесения покрытия - до 60 кВт. (в зависимости от количества одновременно используемых источников)
СОСТАВ УСТАНОВКИ.
№ п/п | Наименование | Кол - во. |
1. | Магнетронный источник с блоком питания.
Размер мишени, мм Блок питания - ток разряда, мах , А |
3 шт.
2230 * 100 * 10. 3шт. 40 |
2. | Ионный источник
- рабочая зона, мм - ток разряда, А - рабочее напряжение, В |
1
2100 * 70 0.7 |
3. | Технологическая оснастка барабанного типа.
Количество одновременно загружаемых изделий размером 125 * 125 мм (возможен вариант технологической оснастки непосредственно под изделия заказчика) |
2 компл.
300 шт. |
4. | Форвакуумный агрегат Okta 500 /HENA 300 (PFEIFFER) | 1 |
5. | Высоковакуумный откачной модуль на базе диффузионного насоса НВДМ - 400 | 1 |
6. | Затвор высоковакуумный Ду 400 с пневматическим управлением и возможностью дросселирования откачки | 1 |
7. | Нагреватели внутрикамерные с возможностью управления температурой подложки до 400 ˚ С . | 4 |
8. | Вакуумные датчики:
- PFEIFFER IKR 251 - PFEIFFER PKR 251 - PFEIFFER TPR 280 |
1 1 2 |
8. | Контроль толщины покрытий:
- Кварцевый контроллер толщины. - Контроль сопротивления на образце. |
1 1 |
8 | Система пневматическая на базе элементов SMC | 1 |
9 | Система гидравлическая на базе элементов SMC | 1 |
10 | Система автоматическая подачи технологических газов с возможностью работы одновременно с 4 - 8 газами | 1 |